Simple Overview of TXRF (Total Reflection X-Ray Fluorescence)
TXRF adalah salah satu teknik analisa menggunakan X-Ray Fluorescence dengan kadar sangat rendah, yaitu hingga konsentrasi ppb (part per billion). Biasanya digunakan untuk analisa trace elements, air, lingkungan, dan lain sebagainya.
TXRF merupakan teknik analisa menggunakan metode baru yang memanfaatkan sudut datang sinar-X sangat rendah untuk memaksimalkan refleksi sinar-X yang ditangkap oleh detector sehingga bisa menekan background serendah mungkin dan menghasilkan pengukuran dengan sensitifitas tinggi.
Selain untuk analisa sample lingkungan, TXRF bisa pula digunakan untuk analisa permukaan pada aplikasi thin film dan thick film analysis menggunakan feature GI (Grazing Incident) untuk mengatur sudut tembakannya yang sebanding dengan kedalaman penetrasi berkas sinar-X terhadap sample yang ditembak. Feature ini hanya dimiliki oleh brand Rigaku.
Metode TXRF ini sudah comply dengan beberapa ISO, diantaranya sebagai berikut.
- ISO 20289:2018 Surface chemical analysis – TXRF analysis of water
- ISO/TS 18507:2015 Surface chemical analysis – Use of TXRF Spectroscopy in
biological and environmental analysis - ISO 14706:2014 Surface chemical analysis – Determination of surface elemental
contamination on silicon wafers by TXRF spectroscopy - ISO 17331:2004 Surface chemical analysis – chemical methods for the collection
of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and
their determination by TXRF spectroscopy.